PANews 7月15日訊息,據路透社報道,晶片製造商 Tower Semiconductor 當地時間 7 月 14 日宣佈,將投資 30 億美元加強在日本的晶片製造,其中包括來自日本政府的 10 億美元撥款。聲明稱,第一階段將大幅增加 300 毫米矽光子器件產能,預計將於 2027 年第四季全面投產。該階段包括改造原 Fab 6 工廠,使其具備 300 毫米矽光子器件產能和先進封裝能力。第二階段將與第一階段同步啟動,包括在 Fab 7 工廠旁新建一座 300 毫米光刻機製造廠。
晶片廠商Tower Semiconductor將在日本投資30億美元
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作者:PA一线
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