PANews 8月9日消息，據韓聯社報導，首爾高等法院近日對涉嫌違反《產業技術保護法》《防止不正當競爭法》及業務上背信等罪名的金某（化名），維持一審判決，判處有期徒刑 1 年 6 個月。金某曾在 SK 海力士中國當地法人工作。2022 年，他為跳槽到中國公司（包括華為子公司海思等），擅自洩露並使用了公司 CIS（CMOS 影像感測器）相關的尖端技術和商業秘密。其違反安全規定，從公司內部文件管理系統列印或拍攝機密資料用於撰寫履歷，並將部分內容直接寫入履歷提交給中國公司。一審認定其洩露商業秘密罪名成立並判處實刑，但對涉及 HBM（高頻寬記憶體）實現所需的「混合鍵合」技術資料洩露部分，以該技術不屬於產業通商資源部規定的尖端技術為由判無罪。二審認為一審事實認定和法律適用無誤，維持原判。